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半導體的製程從最前段的長晶、切片,到繁複的晶圓製造過程,無論是光罩、線路蝕刻或是化學機械研磨等,都需要大量的純水來洗淨。由於精度要求越來越嚴苛,其積體電路的線徑已進入奈米階段,因此對純水的純度要求也跟著提高。
目前十二吋晶圓廠對純水水質主要的要求如下:
電阻值 >18.2MΩ-cm
總有機碳 <0.5ppb
二氧化矽 >0.1ppb
金屬 <20ppt
硼 <50ppt
粒子 >0.05um
<0.2pcs/c.c.
純水系統的設計除了要達到水質要求以外,如何使系統長時間穩定的運轉、操作簡易,並達到省電、省水的要求,則是系統業者應該全盤考量的重點。
Purification System 半導體 電子廠
大型石化工廠及發電廠常因製程及高壓鍋爐而需要設置水質較高的補充水處理工廠,由於處理水量大,一般採用2B3T+MB為處理水單元。聯純公司應用最新德國Bayer浮動床技術為台塑企業建造一座符合現代化的超大型純水工廠,不論生產水質及酸鹼再生及操作性均達到國際水準。
Purification System 石化 汽電廠
電子級化學品工廠基於化學品溶液調配及清洗需求而需使用符合製程要求的高級超純用水,純水生產處理單元在生產流程被列為Critical Equipment為確保生產品質,純水等級依ASTM特分為E1/E2/E3/E4四種等級。
Purification System 電子級特用化學品工廠
生技、製藥工廠基於製程調配及清洗需求而需使用符合生產要求的高級用水,純水生產處理單元在生技、製藥工廠被列為Critical Equipment,為確保藥品的安全必須依據cGMP要求建造並通過 IQ/OQ/PQ確效驗證,才能確保生產運轉無誤。
Purification System 生技及製藥工廠
在超純水科技的領域中, 堅持專業卓越的品質理念, 秉持誠信負責的服務態度, 持續不斷地創新精進